本文摘要：10月18日消息，在上海举行的“2019中国（上海）集成电路创意峰会”上，参会专家透漏，上海市将联合制订“中国集成电路技术路线图”（下称“路线图”），去年在上海开馆的国家集成电路创意中心将主导路线图制订。

10月18日消息，在上海举行的“2019中国（上海）集成电路创意峰会”上，参会专家透漏，上海市将联合制订“中国集成电路技术路线图”（下称“路线图”），去年在上海开馆的国家集成电路创意中心将主导路线图制订。根据复旦大学微电子学院院长、国家集成电路创意中心总经理张卫讲解，路线图还包括六大部分，分别是集成电路生产技术现状和发展趋势、先进设备光刻工艺发展趋势、逻辑工艺技术、存储器技术、打破摩尔特制化技术、第三代功率半导体技术。

张卫回应，路线图糅合了ITRS模式，并将融合中国集成电路产业实际，尝试预测中国集成电路技术发展的路径自由选择和规划周期，最后为产业发展获取协助。ITRS即美国半导体协会于1992年撰写的半导体技术路线图，总计公布9个版本，对国际半导体产业发展起着了最重要的指导作用。张卫特别强调，编成路线图是一种尝试，通过路线图企图具体未来集成电路产业技术发展的目标、方向、重点、关键问题和时间节点等。

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